Ion Implantation Technology

16th International Conference on Ion Implantation Technology; IIT 2006

Karen J. Kirkby, Russell M. Gwilliam, Andy Smith, David Chivers (Herausgeber)

CD-ROM (Software)

664 Seiten

2006 | 2006 ed.
American Institute of Physics (Hersteller)
9780735403666 (ISBN)

Infos

This is the premier world conference for the presentation of the latest advances in ion implantation, from the fundamentals of ion-solid interactions to manufacturing implant equipment. All papers were peer-reviewed. Ion implantation is used to manufacture semiconductor devices. Materials properties are changed by bombarding wafers with atoms, which are accelerated in an ion implanter.

Produkt-Details

• Erscheint lt. Verlag: 1.2.2007
• Reihe/Serie: AIP Conference Proceedings / Accelerators, Beams, and Instrumentations ; 866
• Verlagsort: New York
• Sprache: englisch
• Themenwelt: Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Atom- / Kern- / Molekularphysik
• Themenwelt: Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Festkörperphysik
• Themenwelt: Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Hochenergiephysik / Teilchenphysik
• Themenwelt: Technik ► Maschinenbau
• ISBN-13: 9780735403666 / 9780735403666
• Zustand: Neuware