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Ion Impantation Technology

16th International Conference on Ion Implantation Technology; IIT 2006

Karen J. Kirkby, Russell M. Gwilliam, Andy Smith, David Chivers (Herausgeber)

Buch | Hardcover

682 Seiten

2006
American Institute of Physics (Verlag)
9780735403659 (ISBN)

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This is the premier world conference for the presentation of the advances in ion implantation, from the fundamentals of ion-solid interactions to manufacturing implant equipment.

This is the premier world conference for the presentation of the latest advances in ion implantation, from the fundamentals of ion-solid interactions to manufacturing implant equipment. All papers were peer-reviewed. Ion implantation is used to manufacture semiconductor devices. Materials properties are changed by bombarding wafers with atoms, which are accelerated in an ion implanter.

Erscheint lt. Verlag	28.12.2006
Reihe/Serie	AIP Conference Proceedings ; 866
Zusatzinfo	Illustrations, charts, ports.
Verlagsort	New York
Sprache	englisch
Maße	210 x 277 mm
Gewicht	1897 g
Einbandart	gebunden
Themenwelt	Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Atom- / Kern- / Molekularphysik
	Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Festkörperphysik
	Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Hochenergiephysik / Teilchenphysik
	Technik ► Maschinenbau
ISBN-13	9780735403659 / 9780735403659
Zustand	Neuware