CMOS Plasma and Process Damage (eBook)
XIX, 466 Seiten
Springer-Verlag
978-3-031-89029-1 (ISBN)
This book discusses the complex technology of building CMOS computer chips and covers some of the unusual problems that can occur during chip manufacturing. Readers will learn how plasma and process damage results from the high-energy processes that are used in chip manufacturing, causing harm to the chips, functional failure and reliability problems.
| Erscheint lt. Verlag | 16.5.2025 |
|---|---|
| Zusatzinfo | XIX, 466 p. 399 illus., 368 illus. in color. |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Mathematik / Informatik ► Informatik |
| Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie | |
| Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik | |
| Schlagworte | CMOS Hydrogen Effects • CMOS Metal Contamination • CMOS Mobile Ions • CMOS Process Damage • plasma damage • Reliability Degradation |
| ISBN-10 | 3-031-89029-9 / 3031890299 |
| ISBN-13 | 978-3-031-89029-1 / 9783031890291 |
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