Ion Implantation and Annealing Applications, Science and Technology
Contributions from IIT School, Edition 2024
Seiten
2026
Springer International Publishing (Hersteller)
978-3-032-10008-5 (ISBN)
Springer International Publishing (Hersteller)
978-3-032-10008-5 (ISBN)
- Noch nicht erschienen - erscheint am 03.02.2026
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| Erscheint lt. Verlag | 3.2.2026 |
|---|---|
| Reihe/Serie | Physics and Astronomy |
| Physics and Astronomy (R0) | Topics in Applied Physics |
| Zusatzinfo | VI, 8 p. 424 illus., 14 illus. in color. |
| Verlagsort | Cham |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Atom- / Kern- / Molekularphysik |
| Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik | |
| Schlagworte | annealing • CMOS process technology • ion implantation • ion sources • semiconductor • wafer contamination |
| ISBN-10 | 3-032-10008-9 / 3032100089 |
| ISBN-13 | 978-3-032-10008-5 / 9783032100085 |
| Zustand | Neuware |
| Informationen gemäß Produktsicherheitsverordnung (GPSR) | |
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