Photomask Japan 2007

Photomask and Next-generation Lithography Mask Technology XIV

CD-ROM (Software)

2007
SPIE Press (Hersteller)
978-0-8194-6746-1 (ISBN)

Produkt-Details

• Erscheint lt. Verlag: 15.6.2007
• Reihe/Serie: Proceedings of SPIE ; CDS 262
• Verlagsort: Bellingham
• Sprache: englisch
• Themenwelt: Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik
• ISBN-10: 0-8194-6746-4 / 0819467464
• ISBN-13: 978-0-8194-6746-1 / 9780819467461
• Zustand: Neuware