Thin-Film Deposition: Principles and Practice
Seiten
1995
McGraw-Hill Professional (Verlag)
978-0-07-058502-7 (ISBN)
McGraw-Hill Professional (Verlag)
978-0-07-058502-7 (ISBN)
Offers a complete description of the theory and technology of thin film deposition. This book offers a broad perspective, and gives readers the tools to objectively evaluate and choose the appropriate thin film process for a specific application. It also includes a list of symbols and an extensive index.
McGraw-Hill authors represent the leading experts in their fields and are dedicated to improving the lives, careers, and interests of readers worldwide
Thin Film Technology.Gas Kinetics.Vacuum Technology.Evaporation.Deposition.Epitaxy.Chemical Vapor Deposition.High-Energy Techniques.Plasma Processes.Film Characterization.
| Erscheint lt. Verlag | 30.4.1995 |
|---|---|
| Zusatzinfo | 220 Illustrations |
| Sprache | englisch |
| Maße | 155 x 224 mm |
| Gewicht | 998 g |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Festkörperphysik |
| Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik | |
| Technik ► Maschinenbau | |
| ISBN-10 | 0-07-058502-4 / 0070585024 |
| ISBN-13 | 978-0-07-058502-7 / 9780070585027 |
| Zustand | Neuware |
| Informationen gemäß Produktsicherheitsverordnung (GPSR) | |
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