Design and optimization of a novel tri-axial miniature ear-plug piezoresistive accelerometer with nanoscale piezoresistors (eBook)
GRIN Publishing (Verlag)
9783668592919 (ISBN)
A micro-electro-mechanical system (MEMS)-based (bulk micromachined) piezoresistive accelerometer was selected as enabling technology for the development of the sensor. The primary accelerometer elements that can be manipulated during the design stage are: the sensing element (piezoresistors), the micromechanical structure and the measurements circuit. Each of these elements has been specifically designed in order to maximize the sensor performance and to achieve the miniaturization required for the studied application.
To achieve accelerometer high sensitivity and miniaturization silicon nanowires (SiNWs) as nanometer scale piezoresistors are adopted as sensing elements. Currently this technology is at an infancy stage, but very promising through the exploitation of the “Giant piezoresistance effect” of SiNWs. This work then measures the potential of the SiNWs as nanoscale piezoresistors by calculating the major performance indexes, both electrical and mechanical, of the novel accelerometer. The results clearly demonstrate that the use of nanoscale piezoresistors boosts the sensitivity by 30 times in comparison to conventional microscale piezoresistors. A feasibility study on nanowires fabrication by both top-down and bottom-up approaches is also carried out.
The micromechanical structure used for the design of the accelerometer is an optimized highly symmetric geometry chosen for its self-cancelling property. This work, for the first time, presents an optimization process of the accelerometer micromechanical structure based on a novel mechanical principle, which simultaneously increases the sensitivity and reduces the cross-sensitivity progressively. In the open literature among highly symmetric geometries no other study has to date reported enhancement of the electrical sensitivity and reduction of the cross-talk at the same time.
| Erscheint lt. Verlag | 12.12.2017 |
|---|---|
| Verlagsort | München |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Kunst / Musik / Theater ► Design / Innenarchitektur / Mode |
| Technik ► Architektur | |
| Schlagworte | Design • Technology |
| ISBN-13 | 9783668592919 / 9783668592919 |
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