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Optical Characterization of Epitaxial Semiconductor Layers -

Optical Characterization of Epitaxial Semiconductor Layers

Buch | Hardcover
XVI, 429 Seiten
1995 | 1., Ed.
Springer Berlin (Verlag)
978-3-540-59129-0 (ISBN)
CHF 124,25 inkl. MwSt
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The last decade has witnessed an explosive development in the growth of epitaxial layers and structures partially with atomic scale dimensions. This progress has created new demands for the characterization of those structures. Various methods have been refined and new ones were developed with the main emphasis on non-destructive in-situ characterization. Among those, methods which rely on the interaction of electromagnetic radiation with matter are particularly valuable. In this book standard methods such as far-infrared spectroscopy, ellipsometry, Raman scattering, and high-resolution X-ray diffraction are presented, as well as new advanced techniques which provide the potential for better in-situ characterization of epitaxial structures
Sprache englisch
Maße 155 x 235 mm
Gewicht 788 g
Einbandart gebunden
Themenwelt Technik Elektrotechnik / Energietechnik
Schlagworte Epitaxie • Halbleiterphysik • Halbleiterschicht • HC/Technik/Elektronik, Elektrotechnik, Nachrichtentechnik
ISBN-10 3-540-59129-X / 354059129X
ISBN-13 978-3-540-59129-0 / 9783540591290
Zustand Neuware
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