5th International Symposium on Plasma Process-Induced Damage, 2000
Seiten
2001
I.E.E.E.Press (Verlag)
978-0-9651577-4-2 (ISBN)
I.E.E.E.Press (Verlag)
978-0-9651577-4-2 (ISBN)
- Titel ist leider vergriffen;
keine Neuauflage - Artikel merken
This text covers topics such as: CVD process damage effects; electron shading mechanism; front-end process damage effects; damage in multilevel interconnects; damage effects characterization; 300mm technology; thin dielectrics and degradation mechanisms and antenna test structures and design.
| Erscheint lt. Verlag | 31.1.2001 |
|---|---|
| Verlagsort | Piscataway NJ |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Plasmaphysik |
| Technik | |
| ISBN-10 | 0-9651577-4-1 / 0965157741 |
| ISBN-13 | 978-0-9651577-4-2 / 9780965157742 |
| Zustand | Neuware |
| Informationen gemäß Produktsicherheitsverordnung (GPSR) | |
| Haben Sie eine Frage zum Produkt? |
