Herstellung und Charakterisierung von dünnen Silizium/Siliziumoxid-Schichtsystemen
Seiten
2003
|
1., Aufl.
Verein zur Förderung des Walter Schottky Instituts der Technischen Universität München (Verlag)
978-3-932749-49-0 (ISBN)
Verein zur Förderung des Walter Schottky Instituts der Technischen Universität München (Verlag)
978-3-932749-49-0 (ISBN)
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| Reihe/Serie | Selected Topics of Semiconductor Physics and Technology ; 49 |
|---|---|
| Sprache | deutsch |
| Maße | 150 x 210 mm |
| Einbandart | kartoniert |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Atom- / Kern- / Molekularphysik |
| Schlagworte | Festkörperphysik • Halbleiterphysik • HC/Physik, Astronomie/Atomphysik, Kernphysik • Silizium • Siliziumoxid-Schichtsysteme |
| ISBN-10 | 3-932749-49-9 / 3932749499 |
| ISBN-13 | 978-3-932749-49-0 / 9783932749490 |
| Zustand | Neuware |
| Informationen gemäß Produktsicherheitsverordnung (GPSR) | |
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