Introduction to Electron Beam Lithography
2002
SPIE Press (Hersteller)
978-0-8194-3394-7 (ISBN)
SPIE Press (Hersteller)
978-0-8194-3394-7 (ISBN)
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Electron beam lithography is used for patterning photomasks, for writing directly on semiconductor substrates and for research in nanofabrication. This video provides a history of electron beam lithography, and of the optical, mechanical, and electronic components of an electron lithography tool.
| Erscheint lt. Verlag | 30.4.2002 |
|---|---|
| Reihe/Serie | Proceedings of SPIE ; VT11229 |
| Verlagsort | Bellingham |
| Sprache | englisch |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Angewandte Physik |
| ISBN-10 | 0-8194-3394-2 / 0819433942 |
| ISBN-13 | 978-0-8194-3394-7 / 9780819433947 |
| Zustand | Neuware |
| Informationen gemäß Produktsicherheitsverordnung (GPSR) | |
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