Halbleiterätzverfahren

Kinetik, Verfahrensgrundlagen und Anwendungsgebiete von nasschemischen Ätzverfahren für Si, GaAS, GaP und InP

Hans Löwe, Peter Keppel, Dietrich Zach (Autoren)

167 Seiten

1990
Akademie Verlag Berlin (Hersteller)
9783055007064 (ISBN)

Produkt-Details

• Zusatzinfo: 79 Abb., 9 Tab.
• Verlagsort: Weinheim
• Sprache: deutsch
• Maße: 170 x 240 mm
• Themenwelt: Naturwissenschaften ► Physik / Astronomie ► Festkörperphysik
• ISBN-13: 9783055007064 / 9783055007064
• Zustand: Neuware