Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS 3; New Materials, Processes and Equipment; Proceedings
Advanced Gate Stack, Source/Drain and Channel Engineering for Si-Based CMOS (3rd--2007--Chicago, Il)
Seiten
2007
Electrochemical Society (Verlag)
978-1-56677-550-2 (ISBN)
Electrochemical Society (Verlag)
978-1-56677-550-2 (ISBN)
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Erscheint lt. Verlag | 1.1.2007 |
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Reihe/Serie | Ecs Transactions ; 6, NO.1 |
Zusatzinfo | illustrations |
Sprache | englisch |
Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
ISBN-10 | 1-56677-550-7 / 1566775507 |
ISBN-13 | 978-1-56677-550-2 / 9781566775502 |
Zustand | Neuware |
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