International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD)
Seiten
2000
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2000 ed.
I.E.E.E.Press (Verlag)
978-0-7803-6279-6 (ISBN)
I.E.E.E.Press (Verlag)
978-0-7803-6279-6 (ISBN)
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The proceedings of the International Conference on Simulation of Semiconductor Processes and Devices (SISPAD), 2000. Topics include: device simulation; quantum effects and novel devices; process simulation; lithography simulation; user interfaces and visualization; calibration; and more.
Erscheint lt. Verlag | 30.9.2000 |
---|---|
Verlagsort | Piscataway NJ |
Sprache | englisch |
Maße | 216 x 279 mm |
Themenwelt | Technik ► Elektrotechnik / Energietechnik |
ISBN-10 | 0-7803-6279-9 / 0780362799 |
ISBN-13 | 978-0-7803-6279-6 / 9780780362796 |
Zustand | Neuware |
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