Chemistry of Atomic Layer Deposition
Seiten
2021
De Gruyter (Verlag)
978-3-11-071251-3 (ISBN)
De Gruyter (Verlag)
978-3-11-071251-3 (ISBN)
This book will help chemists and non-chemists alike understand the fundamentals of surface chemistry and precursor design, and how these precursors drive the processes of atomic layer deposition, and how the surface-precursor interaction governs atomic layer deposition processes. The underlying principles in atomic layer deposition rely on the chemistry of a precursor with a surface.
Seán Thomas Barry, Carleton University, Ottawa, Canada.
| Erscheinungsdatum | 09.11.2021 |
|---|---|
| Reihe/Serie | De Gruyter Textbook |
| Zusatzinfo | 5 b/w and 70 col. ill., 20 b/w tbl. |
| Verlagsort | Berlin/Boston |
| Sprache | englisch |
| Maße | 170 x 240 mm |
| Gewicht | 214 g |
| Themenwelt | Naturwissenschaften ► Chemie ► Technische Chemie |
| Technik ► Maschinenbau | |
| Schlagworte | Atomic Layer Deposition • Beschichtungen • Materials Fabrication. • Materialwissenschaften • Oberflächen • Thin Film Deposition • Wekstoffwissenschaften |
| ISBN-10 | 3-11-071251-2 / 3110712512 |
| ISBN-13 | 978-3-11-071251-3 / 9783110712513 |
| Zustand | Neuware |
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